钌 回收
02月19日金属钌回收价格行情参考
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金属钌(Ru)有或许作为集成电路中铜互连阻挡层新材料和动态随机存储器(DRAM)设备中的底电极材料,但是阻挡层和底电极的表面需要平整化。目前化学机械抛光(CMP)技能能够实现大局平整化,因此对钌回收学机械抛光研讨具有重要意义。本文选用不同系统抛光液对金属钌进行化学机械抛光试验,调查不同抛光液组分对金属钌抛光速率和表面质量的影响,并使用电化学工作站和X射线光电子能谱仪剖析抛光液中首要成分对金属钌腐蚀作用的影响
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